PVD真空镀膜原理是什么？

PVD真空镀膜是一种表面处理技术，通过在真空环境中将固体材料蒸发或溅射到基材表面，形成一层薄膜，以改善基材的性能和外观。PVD是Physical Vapor Deposition的缩写，意为物理气相沉积。PVD真空镀膜技术广泛应用于电子、光学、机械、建筑等领域，以提高材料的硬度、耐磨性、耐腐蚀性和美观度。

在PVD真空镀膜过程中，首先将待镀膜的基材置于真空室中，通过抽真空的方式将室内的气体抽除，创造出极低的压力环

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